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    鉬靶材_鉬濺射靶材

    發布日期:2020-07-25 17:18:46瀏覽次數: 0

    產品名稱:鉬靶材
    純度:≥99.95%
    密度:理論密度的99.9%以上
    圓靶材規格:D(25-400)mm*T(3-28)mm
    方靶材規格:L(200-2000)mm*W(10-1000)mm*T(1-20)mm
    管靶材規格:D≤Φ165mm*L≤1000mm
    其他規格請聯系我們協商解決
         鉬靶材廣泛用于磁控濺射鍍膜。在物理氣相鍍膜(PVD)方式中,對鉬靶材的成分純度,密度,微觀結構,內部質量,焊接質量,外觀質量和幾何尺寸有著嚴格要求。
         鉬濺射靶材現用于平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、(磁、光)記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等,
    板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
    管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%


    鉬材料適用環境:真空環境或惰性氣體保護環境,純鉬較高耐高溫1200度,鉬合金較高耐高溫1700度。

    鉬材料的適用行業及用途:鉬材料主要用在真空高溫行業,電子行業,藍寶石熱場及航空航天制造行業等,鉬材料經過變形量達到60%以上的軋制加工后,鉬的密度基本上接近于理論密度,因此其具有高強度,內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能,被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏,蓋板真空爐內的反射屏,發熱帶,連接件,等離子鍍膜用的濺射靶材,耐高溫舟皿等制品。

     備案號:蘇ICP備17043560號-8  網站地圖  SITEMAP

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